Depozisyon Vapè Chimik (ALD)
Oct 19, 2024| Depozisyon Vapè Chimik (ALD)
Atomic Layer Deposition (ALD) se yon pwosesis kouch vakyòm kote yon sibstans depoze sou yon kouch substra pa kouch nan fòm yon sèl kouch atomik.
Avantaj ALD: bon inifòmite nan fòmasyon fim, dans pa gen twou, bon etap ki kouvri karakteristik, yo ka te pote soti nan tanperati ki ba (tanperati chanm - 400 degre), ka senp ak egzat kontwòl nan epesè fim, lajman aplikab a diferan fòm substra a, pa bezwen kontwole inifòmite nan koule materyèl reyaksyon. Dezavantaj ALD: Ralanti fòmasyon fim. Pou egzanp, zenk sulfid (ZnS) kouch limyè-emèt pou pwodiksyon an nan izolan nanostructured (Al2O3 / TiO2) ak mens-fim ekspozisyon electroluminescent (TFEL). Konpare ak CVD tradisyonèl ak PVD, ALD gen avantaj ki genyen nan fòmasyon ekselan fim konfòm 3D, inifòmite gwo zòn, ak kontwòl epesè egzak, ki se apwopriye pou grandi fim ultra-mens sou sifas fòm konplèks ak estrikti segondè rapò aspè. Koulye a, ak ogmantasyon nan kantite liy pwodiksyon nan pwosesis ki anba a 45nm, espesyalman sa yo ki nan pwosesis ki anba a 28nm, pi wo kondisyon pou epesè kouch ak kontwòl presizyon, ak prezantasyon an gradyèl nan gwo dansite ak segondè-aspè estrikti rapò nan eleman, teknoloji depo fim mens jwe yon wòl de pli zan pli enpòtan nan endistri semi-conducteurs.
Konpayi IKS PVD, machin kouch dekoratif, machin kouch zouti, machin kouch DLC, machin kouch optik, liy kouch vakyòm PVD, pwojè vire-kle ki disponib. Kontakte nou kounye a, Imèl: iks.pvd@foxmail.com