Ion sputtering deposition
Dec 05, 2019| Ion sputtering deposition
Iyon argon ak yon enèji de 0.1 ~ 5keV yo itilize bonbate yon materyèl sib ki fèt nan yon sèten materyèl, frape soti atòm yo sib ak depo yo sou sifas la nan pyès la yo fòme yon fim mens. An reyalite, metòd sa a se yon pwosesis kouch.
IKS PVD Electron gwo bout bwa kouch machin optik-IKS-OPT2700, Plis detay, byenveni kontak iks.pvd@foxmail.com
←
On: Konparezon nan prensip nan elektwonik pwosesis gwo bout bwa ak teknoloji ion pwosesis gwo bout bwa
Pwochen: Ki kantite Pascal se 99% vakyòm
→
Voye rechèch