PECVD Prensip travay - SINA plak P
Apr 18, 2024| KASÈT Prensip k ap travay - SINA plak P
Sistèm SiNA a adopte yon metòd depozisyon chimik endirèk mikwo ond ki amelyore plasman.
Avantaj: Li gen bon inifòmite fim ak kapasite pwodiksyon an mas.
3. Pasivasyon H (idwojèn) nan plasma a sou sifas wafer Silisyòm lan ak difizyon atòm idwojèn SiN nan Silisyòm nan pwosesis SINTERING, se konsa ke H (idwojèn) pasivasyon sifas Silisyòm lan ak fwontyè grenn nan. kò a, obligasyon sispansyon ak lòt domaj, se konsa ke li pa jwe wòl nan sant la konpoze ankò, mwens konbinezon an nan yon transpòtè kèk, amelyore lavi a nan konpayi asirans minorite a, kidonk amelyore kalite Silisyòm wafer ak amelyore efikasite selil solè an.
Konpayi IKS PVD, machin kouch dekoratif, machin kouch zouti, machin kouch DLC, machin kouch optik, liy kouch vakyòm PVD, pwojè vire-kle ki disponib. Kontakte nou kounye a, Imèl: iks.pvd@foxmail.com