Depozisyon vapè chimik (CVD)
Oct 24, 2022| depozisyon chimik vapè (CVD)
Depo vapè chimik (CVD) se yon metòd pou fòme fim metal oswa konpoze sou sifas substra a pa entèraksyon gaz melanje ak sifas substra a nan yon sèten tanperati.
Karakteristik yo nan depo chimik vapè yo jan sa a: gen anpil kalite sediman, ki ka divize an metal sedimantè, eleman semi-conducteurs, karbid, nitrur, borid, elatriye epi yo ka kontwole konpozisyon an ak fòm kristal nan fim nan yon gwo. ranje; Ka respire fòm jeyometrik nan pati konplèks; Vitès depozisyon an rapid, kouch fim nan dans, ak matris la byen kole; Fasil pou reyalize pwodiksyon an mas.
Akòz bon rezistans mete li yo, rezistans korozyon, rezistans chalè, ak elektrik, optik, ak lòt pwopriyete espesyal, fim depo chimik vapè te lajman itilize nan fabrikasyon mekanik, ayewospasyal, transpò, endistri chimik chabon, ak lòt jaden endistriyèl.
Konpayi IKS PVD, machin kouch dekoratif, machin kouch zouti, machin kouch DLC, machin kouch optik, liy kouch vakyòm PVD, pwojè vire-kle ki disponib. Kontakte nou kounye a, Imèl:iks.pvd@foxmail.com