Devlopman ak aplikasyon nan Teknoloji Sputtering kouch Teknoloji

Devlopman ak aplikasyon nan teknoloji sputtering kouch magnetron

Nan dènye ane yo, ak devlopman nan materyèl nouvo, espesyalman devlopman ak aplikasyon nan materyèl fim mens, devlopman an rapid nan teknoloji depo spout te jwe yon wòl iranplasabl nan jaden an nan rechèch syantifik ak pwodiksyon endistriyèl. Papye sa a sitou entwodui pwosesis la ak devlopman nan teknoloji kouch depo kouch, karakteristik divès kalite teknoloji sputtering divès kalite gwo platfòm, ak entwodui aplikasyon prensipal la nan teknoloji sputtering magnet nan divès jaden.

Pwosesis la nan kouch sputtering se sitou fè materyèl sib nan fim mens, ki fiks sou katod la nan sistèm nan depo sputtering, ak substra a nan fim mens yo dwe depoze yo mete sou anod an nan sifas sib opoze a.Sistèm Spitman a se ponpe nan yon vakyòm segondè ak plen ak agon, elatriye Yon presyon ki wo se aplike ant katod ak anod, epi li se yon ti kras presyon ekla lumineu pwodwi ant anod ak katod.Nan plasma a ki te pwodwi pa egzeyat, agon ion pozitif deplase nan direksyon pou kathode a anba aksyon an nan jaden elektrik ak kolizyon ak sifas sib la. Atòm sib yo ki emèt nan sifas sib la apre yo fin fè kolizyon yo rele atòm sputtering. Enèji a nan atòm Spuder se jeneralman nan seri a nan youn a plizyè douzèn volontè elèktron.Travaytaj kouch se yo sèvi ak Igon yon pozitif ki te pwodwi pa ekoulman presizyon ekla ba bonbard sibod nan vitès segondè anba aksyon an nan jaden elektrik. Patikil tankou atòm oswa molekil nan sib la ap sputtered ak depoze sou sifas la nan substra oswa materyèl yo fòme kouch nan fim egzije.Sepandan, pwosesis la depo sputtering spattering patikil ki ba anpil enèji, sa ki lakòz yon to fim ki ba.

Magnetron sputtering teknoloji se amelyore fim nan fòme pousantaj sou baz sputtering kouch, etablisman ak jaden elektrik pèpandikilè mayetik jaden nan sifas sib, argon gaz ionizasyon pousantaj yon% 0.5 ogmante soti nan 0.3% a 5%% 6, pou ke li ka rezoud pwoblèm nan nan Sputtering pousantaj depo kouch se ba, youn nan metòd prensipal yo se endistri egzak kouch. Magnetron sputtering materyèl kathod kapab prepare soti nan yon pakèt materyèl, tout metal, alyaj ak seramik ka prepare nan objektif. Magnetron sputtering coating se apwopriye pou mas ak segondè efikasite endistriyèl pwodiksyon akòz to rapid depo li yo ak fim kontra enfòmèl ant ak adezyon bon substra anba efè a nan jaden vètikal mayetik ak jaden elektrik.

1. Pwosesis la nan spoutan magnetron

Nan processeur a sputtering magnetron, pwosesis espesifik la gen yon gwo enpak sou pèfòmans fim, ak pwosesis prensipal la se jan sa a:

(l) netwayaj substra, sitou pa netwaye vapè ak alkòl izopwopil, ki te swiv pa seche rapid apre tranpe substra a ak etanòl ak asetòn yo retire lwil oliv sou sifas la;

(2) vakyòm. Yo dwe kontwole vakyòm anwo a 2 * 10 ^-4 Pa pou asire pite fim lan;

(3) chofaj, yo nan lòd yo retire imidite a sifas substrat, amelyore adezyon fòs nan fim nan ak substra, bezwen chofaj substra, tanperati anjeneral chwazi ant 150 ℃ ~ 150 ℃ ;

(4) aron pwesyon pasyèl, jeneralman nan lespas de 0.01 lPa, pou satisfè presyon kondisyon egzeyat la;

(5) presputtering. Presputtering se yo retire fim nan oksid sou sifas la nan materyèl sib pa bonbadman ion pou yo pa afekte kalite fim.

(6) sputtering. Iyon pozitif ki te fòme pa argon iyonize ka, anba aksyon an nan orthogonal jaden mayetik ak jaden elektrik, bonbard materyèl la sib nan gwo vitès, fè patikil yo sib ki emèt pa sputter rive nan sifas la substra a ak depo nan yon fim.

(7) pandan tanpèt, koyefisyan ekspansyon tèmik fim lan ak substra a diferan, ak fòs obligatwa a piti. Difizyon nan mityèl nan fim nan ak atòm yo substra pandan tanperati ka efektivman amelyore Adhesion la.

2. Devlopman nan teknoloji sputtering kouch magnet

Nan dènye ane yo, devlopman nan teknoloji sputtering magnetron se trè rapid. Metòd tipik gen ladan balanse zanmitay spouting, sputtering reyaktif magnetron, medyòm frekans frekans frekans ak segondè-enèji batman vapè magnetron.

Balanse zanmitay vapè: teknik ki pi tradisyonèl spoutan teknik enplike nan mete yon leman pèmanan oswa yon bobin elektwomayetik dèyè sib la, ki fòme yon jaden mayetik pèpandikilè nan direksyon an nan jaden elektrik la sou sifas la nan sib la. Nan ionizasyon gaz argon anba presyon wo nan yon plasma, Ar + ion pa akselerasyon an jaden elektrik bonbade materyèl kathode, elektwon segondè yo sputtering sib materyèl, ak elèktron nan wòl nan jaden elektrik pèpandikilè ak jaden mayetik, mare nan katod la, tou pre a sifas materyèl sib la ogmante risk kolizyon ant elèktron ak gaz, ki ogmante pousantaj ionizasyon gaz argon a, fè gaz la argon kapab tou kenbe egzeyat la anba gaz ki ba, se konsa spoutmagronon tou de redwi presyon gaz la sputtering, men tou, amelyore efikasite nan sputtering ak pousantaj depo. Sepandan, gen kèk dezavantaj nan sputtering konvansyonèl magnetron. Pou egzanp, tou de elektwon ki pwodwi pa egzeyate ba presyon ak dezyèm elektwon yo emèt pa sib sputtering yo mare nan zòn nan alantou sib sifas la sou 60 mm, se konsa ke ka materyo a dwe mete sèlman nan seri a nan 50 mm ak 100 mm sou sifas sib la. Tankou yon ti seri kouch limite gwosè a nan materyo a yo dwe plake.

Reyaktif magnetron sputtering: ak devlopman nan jeni sifas, divès kalite konpoze fim mens yo te itilize pi plis ak plis ankò. Fim konpoze yo ka prepare pa sputtering sou sib te fè nan materyèl konpoze dirèkteman oswa pa gaz reyaktif lè sputtering sou metal oswa objektif alyaj. Lèt la rele sputtering reyaktif magnetron. An jeneral, li pi fasil pou jwenn fim konpoze segondè yo lè l sèvi avèk metal pi bon jan reyaksyon yo sib ak gaz.

M odium frekans frekans frekans: sa a metòd kouch chanjman ekipman pou sputtering pouvwa elektrik soti nan konvansyonèl DC a medyòm frekans AC ekipman pou pouvwa.Nan pwosesis la Sputtering, lè vòltaj la aplike pa sistèm lan se nan sik la mwatye negatif nan altène aktyèl, materyèl la sib se bonbade ak vapè pa iyon pozitif, pandan y ap nan sik la mwatye pozitif, se sifas la nan sibstans lan sib bonbade ak Sputter pa elektwon nan plasma a, ak nan menm tan an, akimile chaj yo pozitif sou sifas la nan materyèl la sib yo netralize ak fenomèn arc-frape siprime.Si frekans nan sous elektwite Sputtering se anjeneral ant 10 ak 80 kHz, frekans lan se wo, tan an akselerasyon nan iyon pozitif se kout, enèji a se ba lè frape sib la, ak sputtering la depo pousantaj gout kòmsadwa.Medium frekans frekans sistèm sputtering jeneralman gen de sib, ki pran vire yo dwe kathode ak anod detanzantan .Nan lòt men an, li tou elimine fenomèn nan arb-travyè.

Segondè enèji enpulsyonèl spoutan magnetron: Pou la pwemye fwa depi syantis yo Swedish lè l sèvi avèk batman wo-enèji kòm magnetron sputtering pouvwa ekipman pou mòd ak depo a fim Cu fim, HPPMS depi, ak pousantaj segondè li yo ionizasyon metal ogmante atansyon nan dènye ane yo, enèji segondè enpulsyonèl Magnetron sputtering teknoloji se itilize nan segondè pulsasyon pik pouvwa ak pousantaj devwa ba batman kè pwodui anwo nan syèl la sputtering metal ionizasyon nan yon teknoloji sputtering magnetron, akòz dire kout batman kè a, pouvwa an mwayèn se pa segondè, sa a katod pa nan surchof ak ogmante objektif refwadisman sib.Pakè pik se 100 fwa sa a nan sputtering òdinè magnetron, ki se sou 1000-3000w / cm2. Dansite a plasma ka osi wo ke 1018m-3 lòd nan grandè. Pousantaj ionizasyon materyèl sputtering trè wo, ak sib kwit nan Cu ka gen jiska 70%.

3. Aplikasyon nan teknoloji sputtering kouch magnet

Magnetron sputtering coating technology pwensipalman te itilize pou depo de metal ou composés fim mens de plastik, seramik, vè, Silisyòm ak lòt pwodwi pou jwenn pwodwi byen klere, bèl ak ékonomi metalikization de plastik Et seramik. Fim nan fè teknoloji nan dekorasyon, lanp, mèb, jwèt, atizay ak atizana, dekorasyon ak jaden k ap viv lòt anjeneral USES magnetron sputtering metòd, ki se tou aplike nan jaden endistriyèl yo nan fim militè pwoteksyon, pwodwi optik, mwayen anrejistreman mayetik, tablo sikwi , imidite-prèv ak pèmeyab fim, mete-reziste fim, rezistans rouye ak rezistans korozyon.

Magnetron sputtering se pa sèlman aplike nan rechèch syantifik ak jaden endistriyèl, men tou pwolonje nan anpil materyèl chak jou, sitou itilize nan preparasyon an nan fim difisil mens pa depo chimik vapè. Magnetron sputtering teknoloji ki te itilize pou anpil ane nan preparasyon an nan emballage elektwonik ak fim optik mens, espesyalman entèmedyè entèmedyè frekans ki pa ekilibre magnetron sputtering teknoloji a te tou te aplike nan fim optik mens ak transparan kondiktif vè. Transparan kondiktif vè lajman itilize nan prezan, tankou televizyon panèl ekspozisyon panèl, elektwomayetik mikwo ond ak radyo frekans aparèy ki pwoteje ak aparèy, selil solè ak sou sa. Anplis de sa, teknoloji a sputtering teknoloji sputtering jwe yon wòl enpòtan nan memwa optik. Anplis, sa a se teknoloji lajman ki itilize nan sifas fonksyonèl fim, pwòp tèt ou-lubrifyan fim, ultra-difisil fim ak sou sa.

Anplis de sa nan jaden yo mansyone pi wo a ke yo te lajman itilize, teknoloji sputtering kouch teknoloji tou jwe yon wòl enpòtan nan rechèch la nan tanperati ki wo, supèrkonduktè fim mens, jeyan fim monomisistiv fim, feroelektrik fim mens, fim luminesans mens, alyaj memwa fòm fim ak selil solè.

4. Konklizyon

Magnetron sputtering teknoloji kouch te vin youn nan teknik prensipal yo pou prepare fim mens akòz avantaj remakab li yo. Sputtering ki pa-ekilibre ki pa ekilib amelyore distribisyon plasma ak kalite fim. Devlopman an nan teknoloji medyòm frekans vibran kouch te efektivman simonte fenomèn nan arc-travyè nan pwosesis la sputtering reyaktif, redwi domaj yo estriktirèl nan fim nan ak siyifikativman ogmante pousantaj la depozisyon nan fim nan. High - vitès sputtering ak segondè - enèji enpulsyonèl teknoloji sputtering louvri louvri yon nouvo jaden rechèch pou fim sputtering. Nan syans nan lavni, nouvo sputtering teknoloji ankouraje nan jaden an nan lavi, konbinezon an nan teknoloji depo sputtering sputtering ak òdinatè a ap vin yon sijè rechèch cho, lè l sèvi avèk simulation òdinatè a nan kouch la lè jaden an mayetik, jaden elektrik, jaden tanperati, ak distribisyon an nan plasma a, yo pral ofri sputtering teknoloji kouch pou devlopman nan ekspansyon nan espas ki la gwo, ankouraje teknoloji a sputtering kouch teknoloji nan transfòmasyon nan jaden endistriyèl ak k ap viv.