Depozisyon kouch atomik (ALD)
May 09, 2024| Atomic Layer Deposition (ALD) ka konsidere kòm yon kalite CVD. Ald se yon metòd pou pwodwi fim konpoze binè pa altènativman enjekte pulsasyon gaz faz précurseur nan raktor a ak chimikman adsorption ak reflete yo sou substra depozisyon an.
Pwosesis la se menm jan ak pwosesis CVD jeneral la, men reyaksyon an sifas nan depo kouch atomik nan ALD se oto-limite, sètadi chemisorption pwòp tèt ou-limite (CS) ak reyaksyon sekans pwòp tèt ou-limite (RS), reyaksyon an chimik nan nouvo atomik la. fim se dirèkteman gen rapò ak kouch anvan an, nan yon fason ke se sèlman yon kouch atòm depoze nan chak reyaksyon.
Anplis de restriksyon pwòp tèt ou, nan pwosesis ALD la, materyèl paran an bezwen separe apre yon reyaksyon sèten pou kontwole degre nan reyaksyon ak epesè fim final la.
Nan moman separasyon an, yo retire paran an depase reyaksyon ak sous-pwodwi nan kavite a pa yon piki toudenkou nan yon gwo kantite gaz separasyon (Ar oswa N2). Sa a asire ke fim nan ka presipite sou substra a nan yon fason lòd ak quantitative.
Konpayi IKS PVD, machin kouch dekoratif, machin kouch zouti, machin kouch DLC, machin kouch optik, liy kouch vakyòm PVD, pwojè vire-kle ki disponib. Kontakte nou kounye a, Imèl: iks.pvd@foxmail.com