Plasma Enhanced Chimik Vapè Depozisyon

Plasma Enhanced Chimik Vapè Depozisyon

PECVD (prensip) se itilizasyon mikwo ond oswa frekans radyo pou ionize gaz ki gen atòm eleman fim, fòme yon plasma lokal, ak plasma a trè chimik aktif epi fasil pou reyaji, depoze fim nan vle sou substra a.
Yo nan lòd yo fè reyaksyon chimik la ka te pote soti nan yon tanperati ki pi ba, se aktivite a nan plasma itilize ankouraje reyaksyon an, kidonk CVD sa a yo rele plasma amelyore depo chimik vapè (PECVD).

Konpayi IKS PVD, machin kouch dekoratif, machin kouch zouti, machin kouch DLC, machin kouch optik, liy kouch vakyòm PVD, pwojè vire-kle ki disponib. Kontakte nou kounye a, Imèl: iks.pvd@foxmail.com